过完年，入春之后，国内遭受旱灾的耕地面积有了大幅收缩。
其实以正常年份来看，今年也是个灾年，但前两年实在太严重了，相比之下，今年的受灾耕地面积连去年的一半都没有，已经是大为改善了。
城市供销社的农副产品已经不再缺货，每人的口粮配额再次小幅增加，大家的生活也渐渐恢复正常。
这天上午，徐卫国来到单位后，第一时间赶去了光刻机实验室。
历经两年有馀的研发，他们的投影式光刻机已经来到了收尾阶段，他每天都得去看看进展。
进了实验室大门，刚走几步，徐卫国突然顿住了。他转身，走到旁边的掩膜台项目组，推开虚掩的门往里瞧了眼，屋里没人。
整栋楼都安静的吓人，完全不象有几百号人的样子。
“章立军？干什么呢你们？人都去哪了？”徐卫国喊道。
一边喊着，他快步往放置光刻机的房间走去。
转过拐角，走廊里乌泱泱站满了人，全都瞪着熬得红通通的眼睛，一声不吭的看着徐卫国，吓了他一跳。
“不在自己工位，都在这干什么呢？”徐卫国喊道。
没人说话。
“说话啊你们，傻了吗？”徐卫国的心一下子紧绷起来，他看向站在人群最前方的室长章立军：“章立军，你们在这搞什么，出什么问题了？”
章立军微微低下头，还是不吭声。
徐卫国快步走上前，使劲拍了拍章立军的骼膊：“你哑巴了？说话啊？出什么问题了？样机损坏？还是……有人猝死了？”
章立军抬起头，小声道：“所长……”
“你特么倒是说啊！”
“我们……成功了！”
走廊上突然响起震耳的欢呼声，众人跟突然活过来了一般，一拥而上，架着徐卫国的骼膊腿就抬了起来。
“放下，放下我，我恐高！帮傻蛋！”
众人抬着徐卫国走进存放光刻机样机的房间，这才把他放下来。
看着面前与一辆小货车体积相当的庞大机器，徐卫国也顾不上恼火了，问道：“什么时候完成的？”
章立军笑嘻嘻的道：“凌晨五点。”
徐卫国心里松了口气，走到机器前，盯着看了一阵。
接着，他突然转过身，冷冷的看着喜气洋洋的众人。
被他这么盯着，众人脸上的笑容一僵，有些无措。
随后，徐卫国目光扫向章立军。
章立军也有点懵，怯怯的道：“老……所长！”
沉默，足足七八秒的沉默后，徐卫国嘴角才浮起一丝笑意，道：“干的不错！”
他这一笑，其他人紧张的神经这才放松下来。
“你吓我一跳，我还以为哪出问题了呢！”章立军苦着脸道。
徐卫国轻哼一声，“你们吓唬我，就不许我吓唬你们？……行了，都回去休息吧！休息好了再回来工作。”
“我们不困，现在就安排生产集成电路样品试试呗？”
“对啊，我们还能扛！”
徐卫国扬了扬手，道：“行了行了，机器都做出来了，不差这一天。明天吧，明天再开始吧！”
这年代集成电路的生产过程还是很漫长的，尤其是集成的电子元器件越来越多，从一块硅片到变成封装好的成品，实际生产过程常常需要数周。
当然，其中大部分时间都耗费在了各个流程之间的准备等待过程中，而真正制造过程耗费的时间，则大概要十几个小时。
……
转眼到了第二天，徐卫国来到单位后，使用新设备的集成电路样品试生产工作正式开始。
制造集成电路，只有光刻机当然是不够的，还需要薄膜沉积设备、刻蚀设备、掺杂设备、清洗设备、检测设备、封装设备，总共六大项。
这六类设备在他们研究所有不同实验室负责，都是几十人的小团队。
从它们的复杂程度跟研制难度来说，自然是远不及光刻机的，去年底的时候就已经完成了研发。如今光刻机也做出来了，那么集成电路的制造工作也就打通了全技术链条。
徐卫国首先前往各相关实验室，布置任务。
晶圆他们有现成的，这东西能长期存储，不需要再从石英砂开始生产了。
集成电路版图设计图纸也有现成的，直接用新款计算器上的同款，毕竟他们只是要验证生产设备的功能，暂时不需要集成那么多电子元器件。
真正开始的第一步，是根据电路版图制造掩模。
因为电路版图已经相当复杂，已经不可能再象初期那样手工制造掩模，必须使用一种新设备，图形发生器。
这东西就是一个将电路设计图“雕刻”到掩模版上的设备，其中还需要用到高性能计算机，其原理就是使用计算机将版图设计文档分解成简单的基本图形单元，随后计算机控制可变矩形光阑的矩形孔不断变化方向跟大小，在这个过程中光源照射矩形光阑，对其进行曝光、最后在掩模版上拼接成完整图形。（可变矩形光阑是由金属刀片组成的，开口大小可调整的矩形孔）
此时的图形发生器使用的是纯光学方法，效率很低，后世已经采用激光直写技术。
完成掩模制造后，接着就要拿去做薄膜沉积、继而光刻、随后刻蚀、离子注入，晶圆测试，封装。
为了尽快拿到集成电路样品，徐卫国给各实验室安排好了时间表，晚上也不停，人跟着制造流程走。
就在这样不间断的工作下，等第一块集成电路封装完成，也已经是五天后了。
拿到样品后，实验室第一时间对其进行了功能性验证，结果全部合格。
接下来最重要的事，则是测量其加工精度，最内核的指标是特征尺寸。
所谓特征尺寸，打个比方就是笔尖有多细，越细越好，越细就能写出越小的字。
后世常说的芯片采用几纳米工艺，指的就是特征尺寸。
他们使用的光刻机，理论上已经能加工亚微米级、也就是从100纳米到1微米级别特征尺寸的集成电路，但实际效果还不知道。