前世，EUV光刻机的联合研发成功几乎逼近当时人类物理学、材料学以及精密制造的极限，除了光源功率要求极高，透镜和反射镜系统也极致精密，还需要真空环境，配套的抗蚀剂和防护膜的良品率也不高，别说ASML或Nikon，就算是科技实力世界第一的美国，以一国之力，完全自主制造一台EUV光刻机，比登天还难。 EUV光刻机被称为人类工业皇冠上的明珠！ 汤普森院士团队虽然没有研制成功EUV，但研究成果对GCA的光源和光学精密设备的不断改进贡献极大。 由于孙健重生，濒临破产倒闭的GCA浴火重生，重回全球光刻机的龙头企业之一，成为EUV LLC联盟的重要成员，汤普森院士团队专门研究EUV光源7年，取得了不少重要技术成果，EUV LLC联盟研制成功EUV光刻机，肯定不需要15年。 GCA将成为全球唯一生产EUV光刻机的厂家，ATIC将成为最大的受益者，虽然孙健也乐见其成，但以美国人的性格，极有可能让ATIC交出GCA的控股权，严禁出口EUV到中国，这不是重生者愿意看到的结果。 前世被美国技术封锁，举国之力，孙健穿越前没有看到国产EUV光刻机的影子。 经过一年多的努力，BSEC已经研究成功8英寸晶圆、250nm制程工艺的光刻机，正在抓紧时间研制180nm制程工艺的光刻机。 制程工艺不断突破对BSEC来说都是突飞猛进的进步，但同Nikon和GCA相比，还有2代技术差距，没有大肆宣传，避免被仇视中国的美国国会议员盯上。 不到10年时间，从4代技术差距缩短到2代，BSEC的管理层和技术人员都尽力了。 孙健知道，要是没有65nm制程工艺这道难关挡在光刻机业界的前面，有他出钱出力，BSEC在15年内也很难赶上光刻机技术实力雄厚的GCA和Nikon。 连李昌杰都不知道，BSEC研究院院长邓国辉院士和所长钱富强研究员率领光源研究所的140多名研发人员，经过2年半的潜心研究，有孙健不断“点拨”，终于在去年7月研制成功浸没式光刻系统技术，ArF激光器发射的193nm光源通过纯净水的折射，得到了波长134nm的光源，解决了业界遇到的193nm波长的世界级难题，还没有申请公司发明专利，秘而不宣。 只能委屈钱富强和140多名研发人员了。 研究员钱富强凭借主持研发成功浸没式光刻系统技术，攻克这项光刻机光源上的世界级难题，凭借这一世界级的重大科研成果，就能申请工程院院士。 邓国辉和钱富强从去年8月开始立项，BSEC投资1亿元，带领光源研究所，静下心来开始研发EUV。 作为上市公司，BSEC发布公告，投资1亿元继续研究193nm波长的世界级难题。 即使能得到蔡司公司最先进的透镜和反射镜系统，有资金支持，孙健也怀疑BSEC研究院在20年内能否研制成功EUV光刻机？ 停止研究也不可能买到EUV光刻机，20年不行，30年！ “李总，布罗迪先生，余总已经拿到美国商务部的同意文件，我们明天前往美国，180nm制程工艺的半导体生产线的基建要加快进度，增加人手，保证11月底完工。” 孙健今天参观的这条BSEC研发和生产的500nm制程工艺半导体生产线的建设工程已经到了设备安装阶段，按照规划，7月下旬将进行试生产。 “好的，董事长！” “好的，董事长！” 李昌杰和布罗迪都笑了，他们从心底敬佩孙董事长的精明和胆识。 PGCA这次从GCA购买一条180nm制程工艺的半导体生产线是为国智电脑公司生产GZ-CX3准备的，从3月初提交购买申请，PGCA就已经开工大规模基建项目，孙董事长笃定美国商务部这次不会反对GCA的出口申请。 陈永清院士率领国智CPU研究所台式机CPU研发部的600多名研发人员，从去年10月4日就开始研制比肩PentiumⅢ和Athlon 700的GZ-CX3。 GZ-CX3设计采用双重独立总线结构，内部集成1000万个晶体管，频率从500MHz开始，后期可以达到1GHz以上，采用180nm制程工艺生产。 研发费用2.5亿元，耗时10个月。 按照规划，国智CPU研究所今年9月前就能研发成功GZ-CX3，到时候有米没有锅！ 这条180nm制程工艺的半导体生产线的基建规模庞大，要是放在美国，最少需要12个月的时间，顺圆地产（京城）集团集中力量，日夜施工，争取在6个月内完成基建工程，进入设备安装阶段，8个月后进行试生产。小主，这个章节后面还有哦，请点击下一页继续阅读，后面更精彩！